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又見備胎?華為光刻設備和光刻係統專利曝光,我們選擇迎難而上

時間:2020-07-22 來源:互聯網 瀏覽量:

半導體芯片製作分為 IC 設計、 IC 製造、 IC 封測三大環節, 光刻作為 IC 製造的核心環節,其主要作用是將掩模板上的芯片電路圖轉移到矽片上。 由於光刻的工藝水平直接決定芯片的製程水平和性能水平,光刻成為 IC 製造中最複雜、最關鍵的工藝步驟, 光刻的核心設備——光刻機更是被譽為半導體工業皇冠上的明珠。又見備胎?華為光刻設備和光刻係統專利曝光,我們選擇迎難而上(1)

光刻機想象圖

那麼光刻機對於我們來說有多重要呢?西方國家幾十年長期封鎖禁售光刻機給我們,這導致了我們不得不依賴進口芯片和海外代工廠來滿足我們的需求,正因為我們沒有光刻機,所以我們一直都處於半導體產業的中下遊,也就是說我們的命門一直都被西方所掌控,如今M國對華為的製裁就非常清晰的告訴我們,沒有光刻機你就無法做出芯片,我禁止你的代工合作,你芯片隻能購買其他公司的,那麼對於華為而言,本身已經成熟的IC設計部門(華為海思),甚至設計能力已經達到了世界領先水平,唯獨沒有IC製造能力,這是華為眾多備胎計劃中缺失的嗎?其實並不是,華為早在2016年就申請了相關專利,我在國家知識產權局了解到,華為申請了“一種光刻設備和光刻係統”的專利。

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華為光刻設備和光刻係統專利

專利中注明申請人就是華為技術有限公司,發明人為:弗洛裏安·朗諾斯。專利申請時間為,2016年9月9日,也就是說華為早在4年前就開始著手光刻機產業的相關研發。

專利內容摘要: 一種光刻設備(100)和光刻係統,該光刻設備(100)包括:光開關(110)和N個光子器件(120),光開關(110)包括N個子光開關(111,112),N個子光開關(111,112)與N個光子器件(120,130)一一對應,N為正整數且N≥2;每個子光開關(111,112)的狀態包括開啟狀態和關閉狀態,處於開啟狀態的子光開關(111,112)用於將光束傳輸至對應的光子器件(120,130),處於關閉狀態的子光開關(111,112)不能將光束傳輸至對應的光子器件(120,130);每個光子器件(120,130)包括分束裝置(121,131)和聚焦透鏡(122,132)。該光刻設備(100)無需改變光刻設備(100)與基材的相對位置即可製備出需要的圖案,避免了平移步驟和對準步驟,從而提高了處理效率以及在基材上形成的幹涉圖案的精確度。


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華為光刻設備分析圖


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華為光刻設備分析圖


結合之前華為在各大招聘網站的招聘信息來看,華為準備加大對光刻機領域的投入研發是毋庸置疑的,光刻機一直把持著半導體產業的命脈,這個命脈一直不是掌控在我們手裏,甚至我們想買都不到,西方對我們長達幾十年的封鎖,各類頂尖技術的禁售,逼迫我們一次又一次尋、求自研突破,那麼今天M國人用光刻機來卡我們的脖子,我們是選擇妥協?還是選擇繼續自研突破?華為其實已經給了我們答案。

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華為早前發布的招聘光刻工藝工程師截圖

最後說些題外話,我國每年進口芯片超3000多億美元,即便我們花了這麼多金錢進口芯片,也沒能在高端領域突破禁售,我們每年在芯片進口的花銷非常巨大,據不完全統計,2018年全球芯片生產總量約4688億美元,中國進口3120億美元,占比2/3。

這個數據從哪裏統計來的呢?看起來非常震驚。當我對這個數字尋求出處的時候,業內朋友給了我來源。

根據國家海關數據統計,2018年,中國芯片進口總量為3120億美元,占全球集成電路5000億美元市場規模的近60%,進口額度超過石油,位列國內進口商品第一位。麵對終端需求的快速更替和技術的快速迭代,“芯片國產化”已經成為國家未來長期重要的發展戰略。

芯片本身的造價其實不貴,隻是因為工藝和製造設備我們沒有,我們就要花天價進口回來,這就是西方人想看到的結果,他們可以不停的吸血,但是絕不允許你可以造血,所以今天我們應該明白一個道理:求人不如求己,隻有自身強大,才不會被任意宰割。

結語:也許這隻是一個開始,但絕對不是結尾,華為在光刻領域的研發開始加大,我國各行各業也深刻明白光刻機的迫切性,荷蘭人曾嘲諷給我們圖紙都未必能造出光刻機,那麼我們就試試沒你的圖紙我們能不能把這玩意搞出來,沒什麼能難倒我們,光刻機也不行。

#華為# #科技快訊#

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